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高温原位池

高温原位池

高温原位池为开展气固原位XAFS实验而设计。可以在原位环境开展高温下的费托合成等各种高温气体催化反应。原位池配备有Kapton膜窗口,可以应用于XAFS透射模式;配备加热电阻水冷系统及控制系统,实现最高500°C的高温环境。
所属分类:
X射线光谱分析
400-8877-750 sales@specreation.com
高温原位池
产品介绍
设备特点
应用简介

产品特点 Product Features

●双加热电阻,最高温度500°C,快速升温
●配备有水冷系统和温度反馈控制系统
●配备Kapton膜窗口
●完全适配TableXAFS谱仪
●配备进气和出气接口
●适用于压片及薄膜样品

主要参数 Technical Parameter

温度范围 25°C-500°C
适用XAFS模式 透射
适用能量范围 5-15 keV
样品尺寸 10 mm/12.7 mm
外形尺寸 110 mm×50 mm×75 mm (L×W×H)

测试数据 Test Data

普通NiO在丙烷气氛下NiO明显被还原 修饰后样品在40%丙烷/氩气气氛下能保持长时间稳定

 

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