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PRODUCT SERIES
角分辨光电子能谱(ARPES)装置
采用高亮度、高单色性的UV、EUV、激光作为激发光源,获得材料的ARPES谱图,精确表征动量空间中的能带结构
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原子电子结构分析仪
原子电子结构分析仪采用罗兰圆结构和大尺寸弯晶元件,利用常规X光源实现X射线吸收结构的光谱测量,在实验室即可助您畅享“想测就测、随时可测”的XAFS自由。
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弯晶器件
晶体是X射线波段分光的唯⼀器件,晶体与能量满足布拉格方程,通过转动晶体⻆度可以实现不同能量的扫描和选择。常规生产的晶体通常是平⾯的,具备分光能力但无法成像,通过特殊工艺可以将晶体弯曲,从而可以增加晶体器件的成像功能,同时提⾼仪器的收光效率,具有广泛的应用。
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透射式晶体谱仪
透射弯晶谱仪,利用劳厄弯晶将不同能量的X射线衍射到记录面上的不同位置,同时利用X射线成像板进行探测。该谱仪具有测谱能量范围宽、光谱分辨⾼等特征,特别适用于激光与固体靶相互作用产生的特征能谱诊断。
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球面弯晶谱仪
球面弯晶谱仪,使用球面弯晶作为衍射分光元件,可以实现⼀维分光,⼀维聚焦成像,广泛应用于软X射线波段 (0.5- 15keV) 的光谱探测,可同时实现很高的亮度和高能谱分辨。
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Von Hamos柱面弯晶谱仪
Von Hamos柱面弯晶谱仪采⽤柱面弯晶对弧矢方向光束进行聚焦,子午方向⾊散分光,该谱仪具有高分辨率和高效率等特点,同时可以通过晶体的扫描或多通道模式,获得较宽的测谱范围。
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椭圆柱面弯晶谱仪
椭圆柱面弯晶谱仪,以椭圆柱面弯晶为分光与聚焦元件,光源点和狭缝分别位于椭圆的两个焦点上,X光通过弯晶后汇聚于狭缝处,并在狭缝后的⼀定范围内使用探测器实现能谱测量,系统具有能量范围宽、能量分辨高和效率高等特点。
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弯晶成像系统
弯晶成像系统,采用球面(超环面)弯晶背光成像布置,同时利用了弯晶对固定⼊射光的单色化效果,在对应成像位置获得目标物体图像的准单色投影成像。
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磁谱仪
磁谱仪采用⼀体化设计,由辐射屏蔽体、散射体、电子准直管、磁铁、探测器等组成。高能X射线经过散射体转换变成电信号,不同能量的电子经过磁场偏转半径不同,通过对电信号的测量从而可以反推入射X光的能量及其强度。
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滤片堆栈谱仪
滤片堆栈谱仪,通过堆叠成串的不同材料的滤片和记录介质将轫致辐射衰减、记录其强度,然后通过谱仪的响应函数来反解轫致辐射能谱。谱仪主要由准直部件、滤⽚腔、铅屏蔽、瞄准器和结构⽀撑件组成,通过11种不同类型的⾦属滤片,实现0.1MeV- 10MeV的能量范围覆盖。
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平场光谱仪
平场光谱仪,采用全息凹球面变线距光栅进行分光,具有平场特性,便于使用面阵CCD记录光谱。光栅工作在掠入射模式下,衍射效率高,同时通过选用不同的光栅型号,可以实现波长范围0.6~200nm的全覆盖。
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超环面光栅单色器
超环面光栅单色器,采用像差校正超环面光栅进行衍射分光,可以在较宽光谱范围内保证高的光谱分辨和光通量。 通过选配不同的光栅型号,可以实现10-300nm范围的光谱覆盖。
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